在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜元件會(huì)受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中相當(dāng)常見(jiàn)的為碳酸鈣垢、**鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或生物沉積物。

　　反滲透膜清洗方法

　　1 碳酸鈣垢

　　在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)而導(dǎo)致給水 PH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來(lái)，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長(zhǎng)的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水 PH 至 3.0 ～ 5.0 之間運(yùn)行 1 ～ 2 小時(shí)的方法去除。對(duì)沉淀時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

　　注：應(yīng)確保任何清洗液的 PH 不要低于 2.0 ，否則可能會(huì)RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意，相當(dāng)高的 PH 不應(yīng)高于11.0。查使用氨水來(lái)提PH ，使用**或鹽酸來(lái)降低PH值。

　　2 **鈣垢

　　清洗液是將**鈣垢從反滲透膜表面去除掉的相當(dāng)佳方法。

　　3 金屬氧化物垢

　　可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來(lái)的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。

　　4 硅垢

　　對(duì)于不是與金屬化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過(guò)專(zhuān)門(mén)的清洗方法才能將他們?nèi)コ?，有關(guān)的詳細(xì)方法清與海德能公司聯(lián)系。

　　5 有機(jī)沉積物

　　有機(jī)沉積物 ( 例如微生物粘泥或霉斑 ) 可以使用清洗液 3 去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)海德能公司認(rèn)可的**溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長(zhǎng)時(shí)間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時(shí)，相當(dāng)好采用消毒處理確定適宜的**劑。

　　6 清洗液

　　清洗反滲透膜元件時(shí)建議采用表 2 所列的清洗液。確定清洗前對(duì)污染物進(jìn)行化學(xué)分析十分重要的，對(duì)分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇相當(dāng)佳的清洗劑及清洗方法，應(yīng)記錄每次清洗時(shí)清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出相當(dāng)佳的清洗方法提供依據(jù)。

　　對(duì)于無(wú)機(jī)污染物建議使用清洗液

　　1 對(duì)于**鈣及有機(jī)物建議使用清洗液

　　2 對(duì)于嚴(yán)重有機(jī)物污染建議使用清洗液

　　3 所有清洗可以在相當(dāng)高溫度為華氏 104 度 ( 攝氏 40℃) 下清洗 60 分鐘，所需用品量以每 100 加侖 (379 升 ) 中加入量計(jì)，配制清洗液時(shí)按比例加入**及清洗用水，應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來(lái)配制溶液并混合均勻。

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